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SPECTROLAB S – 高端金屬分析真正意義上的革命

20秒內(nèi)獲得高準(zhǔn)確度的結(jié)果（例如：低合金鋼）

定期維護(hù)的工作量（火花臺(tái)清洗）

減少8倍元素在低合金鋼中平均檢測(cè)限改善2倍，元素在純鋁中的平均檢測(cè)限改善5倍

儀器的占地面積減少27%

單一標(biāo)樣實(shí)現(xiàn)整個(gè)系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)化, 此項(xiàng)每天可節(jié)省30分鐘工作時(shí)間

作為電弧/火花創(chuàng)新技術(shù)的領(lǐng)導(dǎo)者，40多年來，SPECTRO全心投入開發(fā)出世界領(lǐng)先的發(fā)射光譜儀。今天，斯派克公司完美引入CMOS探測(cè)器技術(shù)，徹底改變了高端電弧/火花分析技術(shù)的走向及未來。在所有同類分析儀中，SPECTROLAB S所提供分析速度超出想象，元素檢測(cè)限低至極限，同時(shí)她也可以提供超長的正常運(yùn)行時(shí)間和非常具有前瞻性的靈活性。

    SPECTROLAB S 擁有世界上第一個(gè)基于CMOS的探測(cè)器的記錄系統(tǒng)，該系統(tǒng)非常適合于高端金屬分析。從微量元素到多基體應(yīng)用，它提供了極其快速、高度準(zhǔn)確、異常靈活的技術(shù)選擇。

     樣品的分析速度是儀器先進(jìn)性的重要標(biāo)志，SPECTROLAB S的推出完全滿足了金屬分析市場(chǎng)對(duì)速度的需求。例如：當(dāng)檢測(cè)低合金鋼時(shí)，它可以在20秒或更短的時(shí)間內(nèi)提供高準(zhǔn)確度的測(cè)量值！

獨(dú)特的雙動(dòng)力光學(xué)系統(tǒng)，配備模擬檢測(cè)器光學(xué)系統(tǒng)和數(shù)字檢測(cè)器光學(xué)系統(tǒng)

u 全譜120-800nm，自由選擇光譜線用于分析

u 全數(shù)字等離子發(fā)生器光源精確控制激發(fā)條件

u 氫氣耗量極低，火花臺(tái)維護(hù)量低